Seto 1.60 เลนส์ photochromic shmc

1) การเคลือบสปินคืออะไร?

การเคลือบสปินเป็นขั้นตอนที่ใช้ในการฝากฟิล์มบาง ๆ ลงบนพื้นผิวแบน โดยปกติแล้ววัสดุเคลือบจำนวนเล็กน้อยจะถูกนำไปใช้กับกึ่งกลางของสารตั้งต้นซึ่งจะหมุนด้วยความเร็วต่ำหรือไม่หมุนเลย สารตั้งต้นจะถูกหมุนด้วยความเร็วสูงถึง 10,000 รอบต่อนาทีเพื่อแพร่กระจายวัสดุเคลือบด้วยแรงแบบแรงเหวี่ยง เครื่องที่ใช้สำหรับการเคลือบสปินเรียกว่าสปินโคเทอร์หรือสปินเนอร์
การหมุนจะดำเนินต่อไปในขณะที่ของเหลวหมุนออกจากขอบของสารตั้งต้นจนกระทั่งความหนาที่ต้องการของฟิล์ม ตัวทำละลายที่ใช้มักจะผันผวนและระเหยไปพร้อม ๆ กัน ยิ่งความเร็วในการหมุนของเชิงมุมสูงขึ้นเท่านั้น ความหนาของฟิล์มนั้นขึ้นอยู่กับความหนืดและความเข้มข้นของสารละลายและตัวทำละลาย [2] ผู้บุกเบิกการวิเคราะห์เชิงทฤษฎีของการเคลือบสปินได้ดำเนินการโดย Emslie et al. และได้รับการขยายโดยผู้เขียนหลายคนที่ตามมา (รวมถึง Wilson et al., [4] ผู้ศึกษาอัตราการแพร่กระจายในการเคลือบสปินและ Danglad-Flores et al. [5] ผู้ที่พบคำอธิบายสากลเพื่อทำนายความหนาของฟิล์มที่สะสม)
การเคลือบสปินถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในการสร้างไมโครฟิล์มของชั้นออกไซด์ที่ใช้งานได้บนกระจกหรือคริสตัลเดี่ยวโดยใช้สารตั้งต้นของโซล-เจลซึ่งสามารถใช้ในการสร้างฟิล์มบาง ๆ ที่มีความหนาระดับนาโน [6] มันถูกใช้อย่างเข้มข้นในการถ่ายภาพด้วยแสงเพื่อวางเลเยอร์ของ photoresist หนาประมาณ 1 ไมโครเมตร โดยทั่วไปแล้ว Photoresist จะหมุนที่ 20 ถึง 80 รอบต่อวินาทีเป็นเวลา 30 ถึง 60 วินาที นอกจากนี้ยังใช้กันอย่างแพร่หลายสำหรับการผลิตโครงสร้างโทนิคระนาบที่ทำจากโพลีเมอร์
ข้อดีอย่างหนึ่งในการหมุนฟิล์มบาง ๆ คือความสม่ำเสมอของความหนาของฟิล์ม เนื่องจากความหนาของระดับตนเองจึงไม่แตกต่างกันไปมากกว่า 1% อย่างไรก็ตามการเคลือบฟิล์มที่มีความหนาของพอลิเมอร์และโฟโต้อาจส่งผลให้ลูกปัดขอบที่ค่อนข้างใหญ่ซึ่งการเกิดระนาบมีขีด จำกัด ทางกายภาพ